1納米可期!ASML研發第二代EUV光刻機

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半導體製造過程中最複雜也是最難的步驟就是光刻,光刻機也因此成為最重要的半導體製造設備。在7nm製程的較量中,台積電之所以能夠領先,一個很重要的原因就是EUV技術,在半導體製造的工藝中,這部分的成本就能占到33%左右。

目前最先進的光刻機就是來自這家ASML公司生產的EUV光刻機,每台售價超過1億美元,而且供不應求。ASML的主要客戶為全球一線的晶圓廠,除了英特爾、三星和台積電這三大巨頭之外,國內的中芯國際也是ASML的客戶。

有外媒報導稱,ASML公司目前正積極投資研發新一代EUV光刻機,和往代的相比,新款EUV光刻機最大的變化就是高數值孔徑透鏡,通過提升透鏡規格使得新一代光刻機的微縮解析度、套准精度兩大光刻機核心指標提升70%,達到業界對幾何式晶片微縮的要求。之前ASML公布的新一代EUV光刻機的量產時間是2024年,不過最新報導稱下一代EUV光刻機是2025年量產,這個時間上台積電、三星都已經量產3nm工藝了。

來源: TechWeb

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