5nm的國產刻蝕機穩了,已通過台積電驗證,用於蘋果、華為芯製造

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眾所周知,這一兩年中國芯的發展受到了空前的關注,於是製造晶片的中國企業,以及國產的半導體設備也是受到空前的關注,因為制約我們晶片發展的不僅是技術,還有各種各樣的半導體設備。

而在這些半導體設備之上,光刻機可能是最受關注的設備了,因為目前中國離國際領先水平差得實在太遠了,像最強的ASML光刻機可用於5nm的晶片製造了,而中國產的還在90nm水平,差了至少是10年以上。

當然,在晶片製造過程中,還有一種設備被人經常和光刻機搞混,那就是刻蝕機。很多人都把這兩種機器混為一談,其實並不是的,兩種設備的作用似乎有點相反,光刻機用來在矽晶圓上刻畫電路圖,而刻蝕機則是把沒刻畫電路圖的晶圓去掉。

這兩種設備在晶片製造中,都很重要,只是因為國產的刻蝕機水平完全是世界領先的,早已擺脫了對國外廠商的依賴,所以大家提得相以較少而已。

近日,中微半導體CEO尹志堯博士表示,目前中微生產的5nm刻蝕機(用於5nm工藝的等離子蝕刻機)已經通過了台積電的驗證,明年將正式用於台積電5nm晶片的生產之中了。

而明年5nm晶片將會是誰,台積電最大的客戶是蘋果,5nm的晶片將會是A14,其次是華為,5nm晶片將會是麒麟1020(暫命名),可能還會有高通、AMD等客戶。

對於這樣一家企業,這樣的國產刻蝕機,不知道大家是什麼樣的感想,我想說的是希望這樣的企業在中國越多越好,只有這種掌握核心科技的企業多了,中國的晶片才能全面崛起。

接下來就看國產光刻機的了,一旦刻蝕機有了,光刻機有了,那整個半導體設備領域,對國外的依賴性就不那麼強了,你覺得呢?


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