邁向晶片自主的一小步——中微攻克5納米刻蝕機

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據媒體報導,中微半導體設備(上海)有限公司已經攻克5納米刻蝕機,預計在2020年達到量產。當下由台積電製備的晶片屬於7納米工藝,蘋果的A晶片就是由其代工生產的,而中維的5納米刻蝕機是製備晶片的主要設備,那麼是不是中國就獲得了5納米光刻機了呢,答案是還差一步!

中微生產的是:離子體干法刻蝕機簡稱ICP

「刻蝕機」是襯底上光刻膠曝光顯影之後在襯底上刻蝕圖形的。它的作用呢,好像你想刻個印章,需要用「刀」把木頭的表面一部分給挖下去,留下你的名字凸出來。ICP就是這把刀,去刻矽片或者藍寶石之類的材料。

比如我想刻個O字,就需要把粉色陰影部分刻掉,那麼就需要有個O字型的掩膜,保護矽片O這個部分不被刻掉,如圖。


可以看出來,精細的圖形完全依賴精細的掩膜,掩膜是用光刻機製作的,這也就是大家爭論光刻和刻蝕這的兩個技術概念。


光刻技術做到5納米,同樣也需要刻蝕技術的配套。不過光刻機技術更高端難搞,所以國內先攻破了刻蝕機難關,剩下就是光刻機的5納米突破。因此說光刻機和刻蝕機兩者缺一不可。先用光刻機在半導體晶元上畫圖,再用刻蝕機將畫好的電路圖腐蝕出來。要做出5nm的晶片,我們還需要能畫出5nm細的電路圖的光刻機.

一塊CPU製造出來,需要N多設備和材料。蝕刻機的應用只不過是其中流程之一。 前十大半導體設備生產商中,有美國企業 4 家,日本企業 5 家,荷蘭企業1 家 。美日的強大真不是隨便說說。

光刻是一種圖形轉移技術,國內外教材,從未用納米量級來衡量刻蝕機性能的,這新聞真的有誇大的嫌疑,而能做10nm工藝及以下光刻機的公司目前全世界只有一家荷蘭的ASML,一台設備幾億人民幣吧,並且對中國大陸禁運。中國在設備上的研究還有一段艱辛之路,甚至有人說可能要經歷20年的追趕。

據說馬雲已經成立晶片研發的公司,希望他能加快中國晶片的步伐,早日夢想成真。

中國要在晶片上取得完全自主與製造,還是有一段路要走,砥礪前行。



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