台積電布局7納米製程,中微半導體成功入圍!中國集成電路行業又現一顆新星!

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73歲的尹志堯最近終於實現了「不再給外國人做嫁衣」的夙願,他一手創辦的中微半導體(以下簡稱「中微」),短短几年內就實現了核心領域的彎道超車。不僅率先掌握了5納米刻蝕技術,還打敗眾多半導體設備巨頭,成為台積電7納米晶片工藝設備的供應商。一起來了解!

進入台積電7納米製程供應鏈

近期,10納米製程遭遇了前所未有的挑戰,因此全球半導體企業也紛紛將重要資源投入在7納米製程上。目前,台積電、三星、格羅方德、英特爾等均已開始布局,而這其中又屬台積電動作最為積極。

事實上,作為三星的競爭對手,台積電一直在加緊努力打造7納米工藝處理器,並準備在2018年開始使用效率更高的7納米工藝來製造晶片。

不過,近年來半導體業界一直面臨著投資回報率遞減的困境。所以,台積電在加快7納米製程衝刺的同時,也採取了更嚴格的成本控制策略。其第一刀就是調整半導體機台設備的採購方針,單是蝕刻製程的設備商名單就找了5家廠商入列,其致力於平衡7納米製程設備商生態價格的用意不言可喻。

儘管如此,大陸的中微能夠擠進台積電7納米製程供應鏈,依然是對自身營運指標的一個重要證明。目前它也是大陸唯一進入台積電7納米製程蝕刻設備的設備商。

自主創新助力中國「芯」

據悉,這並不是中微與台積電的第一次合作。雙方早在28製程時便已開始合作,並一直延續到10納米製程,以及現在的7納米製程。而台積電選擇中微的最大原因就是其在等離子刻蝕方面的技術優勢。

作為晶片生產製造的重要設備,等離子刻蝕機用來按光刻機刻出的電路結構,在矽片上進行微觀雕刻,刻出溝槽或接觸孔的設備。其對加工精度的要求非常高,加工精度是頭髮絲直徑的幾千分之一到上萬分之一。

而目前中微的7-10納米刻蝕機設備已經達到與世界最前沿技術相比肩。其半導體產品也早已進入第三代10納米、7納米工藝,並開始了晶圓廠驗證生產階段,即將進入下一世代5納米、甚至3.5納米工藝。

據了解,中微目前已擁有460多個介質刻蝕反應台,並在海內外27條生產線上生產了約4000多萬片晶圓。不僅滿足了國內企業的需求,還一舉打破了國外的壟斷,甚至還能進入國際市場上與應用材料、科林等國際巨頭一爭長短。而它的出色表現也使美國把等離子刻蝕機從其對中國控制的單子上去掉。

全產業鏈需要集中兵力

值得注意的是,儘管我國在刻蝕機方面取得了技術突破,但目前在半導體原材料和製作設備上與國外仍有巨大差距,特別是光刻機和ASML,基本完全依賴進口。雖然在PECVD、氧化爐等設備上國內取得了技術突破,並進入產業化應用階段,但與國外廠商仍有一定差距。

當然,我們也不用太過擔心。本次中微在局部領域取得的技術突破,就是國內逐步實現半導體設備和原材料國產化替代的一部分。未來,類似的技術突破將會越來越多,並最終實現從量變到質變的轉化。

事實上,隨著晶圓代工、封裝測試和IC設計正逐步向東亞乃至中國轉移,以及我國在這方面不斷加大投入,半導體設備和原材料向中國轉移只是時間問題。

不過,以現在的國際環境來看,我國半導體行業仍需要在設備、材料、設計、製造等方面有了突破,才能達到可控。即使現在有了些成績,但中國廠商仍需要繼續努力。

而面對全球化的市場,除了國家繼續採取扶植政策之外,全產業鏈都需要集中兵力,抓住時機,奮力突破,對中國半導體設備業的發展再扶一程。

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