「英特爾精尖製造日」,震撼的10納米製程工藝

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昨天,英特爾在北京舉行了"英特爾精尖製造日",確實是"精尖製造",在此次活動上英特爾發布了最新的10納米晶圓"Cannon Lake",展示了10納米製程工藝,相對於14、16、20納米製程,英特爾領先了不止一點半點啊。

小編了解到,英特爾10納米採用超微縮技術,充分運用了多圖案成形設計,助力英特爾延續摩爾定律的經濟效益,從而推出了最高密度的和最小金屬間距的電晶體;至於功耗,對比之前的14納米製程,10納米製程工藝性能提高25%,功耗降低45%;除此之外,最小柵極間距從70納米縮小至54納米,最小金屬間距從52納米縮小至36納米,尺寸的縮小使得電晶體的密度增強,可以達到14納米製程的2.7倍,這才是10納米製程的技術核心。

除此之外,英特爾公布了採用英特爾10納米製程工藝和晶圓代工平台的下一代FPGA計劃。

研發代號為"Falcon Mesa"的FPGA產品將帶來全新的性能,以支持各企業和大數據中心日益增長的帶寬需求。

以上技術不僅遠超行業內的現有技術,一時半會更是無超越。

這也是英特爾的核心競爭理念,每年都持續降低產品價格並提升其性能,為客戶提高更好的技術,卓越的技術和高質量的服務,打造世界上最嚴苛的技術產業。

小編還了解到,年底之前將會正式投產 10 納米製程技術的處理器,很快我們就可以體驗到它的完美性能了。


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