「推仔說新聞」ASML計劃研發新一代EUV光刻機 性能提升70%

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光刻機對於半導體生產來說可謂是至關重要的設備,在以前光刻機甚至是佳能和尼康的重要產品之一,對你沒看錯,就是你知道的那個佳能和尼康。只不過隨著科技的進步、技術的革新,就目前而言,整個光刻機領域的高端產品全部被ASML壟斷。

而大家常說的EUV也就極紫外光刻機只有ASML獨一份。這就更加彰顯出ASML在整個光刻機業內的地位了。現在每台EUV光刻售價超過一億美元,而且一直處於供不應求的態勢。

既然已經是業內的頭把交椅了,ASML並沒有停下自己的腳步,他們其實很早之前就開始了布局,早在16年ASML就花了20億美元收購了蔡司公司25%的股份,並追加投資雙方合作開發新的透鏡。

接下來在去年10月份就宣布與IMEC比利時微電子中心合作研發新一代EUV光刻機,目標是將NA從0.33提升到0.5以上。

這裡跟大家說一下,關於光刻機的解析度

K1在這其中可以看做常數項,λ為光波長,也就是目前經常進入大家眼帘的極紫外光所影響的就是這項。而NA就是數值孔徑。就目前而言,ASML就是想在這個NA上面做文章。

日前韓媒報導稱,ASML公司正積極投資研發下一代EUV光刻機,與現有的光刻機相比,二代EUV光刻機最大的變化就是High NA(高數值孔徑)透鏡,通過提升透鏡規格使得新一代光刻機的微縮解析度、套准精度兩大光刻機核心指標提升70%。機器將於2025年量產。

在推仔看來,ASML的下一代產品更新也算是可以預見的,畢竟大家都清楚,按照三星和台積電已經公布的路線圖來看,等時間真到了2025年,這兩家的工藝怕是早就推進到3nm左右,如果光刻這邊扯了後腿,相比三星肯定會有藉口說自己的「1nm」計劃失敗。


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